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SK그룹, 맴버사 'SUPEX추구상’ 개최… SK하이닉스 임직원 수상 영예
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SK그룹, 맴버사 'SUPEX추구상’ 개최… SK하이닉스 임직원 수상 영예
  • 김태훈 기자
  • 승인 2023.05.31 15:16
  • 댓글 0
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사진=SK그룹 

(시사캐스트, SISACAST=김태훈 기자) SK그룹은 지난 30일 서울 서린동 본사에서 그룹 내 여러 멤버사 구성원들이 참석한 가운데 ‘SUPEX추구상’ 시상식을 열었다고 31일 밝혔다. 이날 시상식에는 이노베이션상과 시너지상을 받은 SK하이닉스 임직원들이 참석해 수상의 영예를 안았다.

SUPEX추구상은 SK그룹 내 가장 권위 있는 상으로 새로운 도전을 두려워하지 않고, 혁신을 이뤄낸 멤버사 구성원들에게 수여된다.

이노베이션상은 기술혁신을 통해 그룹 내 귀감이 되는 도전과 성과를 이뤄낸 사례에 주어지는 상으로, LPDDR5 개발을 성공적으로 이끈 DRAM개발 이상권 부사장, 권언오 부사장(펠로우), 홍윤석 팀장, 조성권 팀장, 미래기술연구원 손윤익 팀장이 수상했다.

2SK하이닉스는 지난해 11월 세계 최초로 모바일용 D램인 LPDDR에 HKMG 공정을 도입해 성공적으로 LPDDR5X를 개발한 데 이어 올해 1월 LPDDR5X보다 동작 속도가 13% 빨라진 LPDDR5T 개발에 성공했다. 과감한 도전으로 혁신을 이뤄낸 성과를 인정받은 것이다.

HKMG 공정은 유전율(K)이 높은 물질을 D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정이다. 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄일 수 있음. SK하이닉스는 2022년 11월 HKMG 공정을 모바일 D램에는 세계 최초로 도입했다.

LPDDR5X는 이전 세대 대비 33% 향상된 동작 속도인 8.5Gbps 이면서도, 국제반도체표준협의기구(JEDEC)가 정한 초저전압 범위인 1.01~1.12V에서 작동하면서 이전 세대 대비 소비전력을 25% 줄이는 데 성공했다.

원팀으로 함께 문제를 해결해 나가는 협업을 바탕으로 성과를 이룬 사례에 주어지는 시너지상은 SK하이닉스와 SK머티리얼즈 퍼포먼스 임직원들이 공동으로 받았다. SK하이닉스에서는 반도체 공정의 핵심 소재인 EUV PR의 국산화에 기여한 공적을 인정받은 EUV소재기술 김재현 부사장, FAB원자재구매 윤홍성 부사장, 미래기술연구원 길덕신 부사장, 손민석 팀장이 수상했다.

EUV PR은 극자외선 공정으로도 불리는 EUV 공정은 반도체를 만드는 데 있어 중요한 과정인 포토 공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 리소그래피 기술 또는 이를 활용한 제조공정을 말한다. EUV 공정에 사용되는 PR은 반도체 칩의 성능과 수율에 영향을 끼치는 핵심 소재이다.

SK하이닉스는 그룹 멤버사인 SK머티리얼즈 퍼포먼스와 긴밀하게 협업해 EUV PR의 국산화를 이끌며 소재 수급 정상화를 이루고, 91%에 달하던 수입 의존도를 낮춘 공로를 인정받았다. [시사캐스트]


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